3d开奖结果: 中科大与中芯国际合作,要在光刻领域搞出啥事?

2018-06-07 10:16:41 来源:中科大
标签:

新疆好舞蹈第三期 www.6ihh.cn  

近日,中国科学院大学微电子学院与中芯国际集成电路制造有限公司在产学研合作中取得新进展,成功在光刻工艺??橹薪⒘思晗迪鹿姹芟杂叭毕莸奈锢砟P?。通过该模型可有效减小浸没式光刻中的显影缺陷,帮助缩短显影研发周期,节省研发成本,为确定不同条件下最优工艺参数提供建议。该成果已在国际光刻领域期刊Journal of Micro-Nanolithography MEMS and MOEMS发表。
  

超大规模集成电路先进光刻工艺中,图案尺寸越来越小、密度越来越高,显影后的残留缺陷对图案化的衬底表面越来越粘,如何有效去除显影缺陷一直是业界探讨的热点问题之一,国际上对此也尚未存在完备的解决方案。利用校企合作的平台,国科大微电子学院马玲同学通过向校内、企业导师的不断请教和讨论,结合同中芯国际光刻研发团队的密切协作,成功建立一种基于粘滞流体力学的显影缺陷物理模型,可以探究单硅片上显影过程中出现的各种物理极限以及针对不同规格缺陷的去除解决方案,为解决这一难题开辟了全新的道路。同时,这一模型的提出还有助于完善国产装备中匀胶显影机的相关算法。

图1:去离子水冲洗显影后,残留缺陷示意图
  

模型从缺陷的受力角度出发,当对显影后残留在旋转晶圆表面上的缺陷进行去离子水(Deionized Water, DIW)冲洗时,其主要受到三个力的作用,即:去离子水的推力,旋转带来离心力和氮气的推力,合力随半径的变化如图2(a)所示。当合力达到阈值时,缺陷颗粒将从光刻图形的边缘表面被去离子水冲走。阈值定义为显影后残留缺陷的表面与晶圆表面之间的粘滞力。当合力小于阈值时,即三个对残留缺陷的总拔除力小于残留缺陷与晶圆之间的粘滞力时,显影后的残留无法被去除,造成最终的显影后缺陷,在后续的曝光中导致坏点,如图2(b)所示。

图2:(a)缺陷受到的合力变化              (b)显影缺陷在晶圆上的分布
  

经对比验证,模型的精度、准度高,具有很好的研发参考价值。此外,文章中还讨论了数个影响缺陷去除的物理参数之间的相互作用关系。在建立模型的过程中,企业提供的工程实验环境同高校、研究所具备的理论创新能力实现优势互补,产学研协同育人的模式获得显著成效,极大的推进了人才培养与产业的对接进程。

图3仿真结果:(a)缺陷分布实验图与 (b)缺陷分布仿真图的比较
  

中国科学院大学微电子学院是在2014年6月国务院印发《国家集成电路产业发展推进纲要》、2015年7月教育部、国家发改委、科技部、工信部、财政部、国家外专局共同研究决定支持成立首批9所高校建立示范性微电子学院的大背景下,由中国科学院微电子研究所牵头承办,为尽快填补国家集成电路产业高素质人才缺口,秉承带动产业链协同可持续发展的理念下成立的具有特色的示范性微电子学院。学院通过企业定制班的形式与中芯国际、长江存储、华进封装、厦门三安等龙头企业建立开放式办学模式,形成多元化人才培养手段。同时,学院还是“国家示范性微电子学院产学研融合发展联盟”成员单位及联盟秘书处挂靠单位。学院首批学生现分别在中芯国际(上海)、中芯国际(北京)、长江存储进行有关设计、制造、装备材料等不同方向的实习课题研究。 
  

Journal of Micro-Nanolithography MEMS and MOEMS 杂志是国际集成电路工艺研究领域的知名学术期刊,主要刊登关于半导体光刻、制造、封装和器件集成技术等方面的原创性学术论文。 

 
关注与非网微信 ( ee-focus )
限量版产业观察、行业动态、技术大餐每日推荐
享受快时代的精品慢阅读
 

 

作者简介
与非网 小编
与非网 小编

电子行业垂直媒体--与非网小编一枚,愿从海量行业资讯中淘得几粒金沙,与你分享!

继续阅读
邱慈云辞任中芯国际副董事长,希望多陪伴家人

昨晚,中芯国际(00981.HK)宣布,邱慈云因希望有更多时间陪伴家人,辞任公司第I类非执行董事,董事会副董事长及公司战略谘询委员会成员,自2018年6月30日起生效。

和舰落地苏州原因:避开与中芯国际/宏力抢人才

苏州和舰从2001年成立至今已逾17年,和舰芯片制造(苏州)股份有限公司副董事长、首席财务官尤朝生透露,当年和舰曾前往苏州、上海、无锡、深圳等地考察,在评估过各项条件后,最终就剩在上海与苏州之间二择一。

恩智浦发布i.MX RT处理器,RT1050新封装版本来了
恩智浦发布i.MX RT处理器,RT1050新封装版本来了

,近日,恩智浦NXP在中国举办了媒体交流会,对跨界处理器I.MX RT系列产品进行了分享,同时针对中国市场的发展进行了介绍。

中芯国际面临难解窘境,14纳米研发缺人才

中国最大的晶圆代工厂中芯国际目前最新的 14 纳米 FinFET 制程已接近研发完成阶段,其试产的良率已经可以达到 95%。距离 2019 年正式量产的目标似乎已经不远了。但半导体人才储备不足依然是中芯国际面临的重要问题。

中芯国际与一线阵营代差巨大,人才缺失导致行业发展缓慢

中国最大的晶圆代工厂中芯国际目前最新的14纳米FinFET制程已接近研发完成阶段,其试产的良率已经可以达到95%。距离2019年正式量产的目标似乎已经不远了。但半导体人才储备不足依然是中芯国际面临的重要问题。

更多资讯
英特尔与百度强强联手,发力AI领域

李彦宏宣布三个重要信息:全球首款L4级自动驾驶巴士量产下线;发布自主研发可编程芯片“昆仑”,解决AI算力问题;发布百度大脑3.0,首提多模态深度语义理解,并开放110项能力。

可穿戴设备为何一直卖不好?

虽然穿戴式技术已经走过很长的发展道路了,但仍必须克服许多挑战,才能实现广泛应用:业界还需要进行重要的开发任务,才能促进主流消费者的采用成为现实。

“双面”李笑来,真的翻不起多大风浪?

7月3日深夜,李笑来一段关于币圈言论长达53分钟的录音被曝出,在这段对话中,除了脏话连篇,剩下的“精华”可谓是妙语频出、直击真相。

AI发展迅速,都能人造智能皮肤了?

近日,据外媒报道,格拉斯哥大学的研究人员正在研发一种所谓的人造智能皮肤,他们宣称未来有一天能够借助这项技术为截肢患者带来更加完善的修复学,或者打造出具有敏感触觉的机器人。

NB-IoT成爆点,即将进入高速发展期?

从去年MWC上的NB-IoT的提出到如今各种应用的逐步落地、AI与IoT的结合,可以看到,在“智能生活”这个大环境下,IoT已经逐渐走进人们的生活。

Moore8直播课堂
  • 范冰冰现身饭局举杯豪饮范冰冰饭局 2018-12-17
  • 回复@艾鸣1:好不容易写了个主贴发出来,就为你自己立了一根耻辱柱!强坛的主贴是会保留很长时间的哦。 2018-12-16
  • 戈恩可能提前卸任雷诺品牌CEO 管理压力加剧 2018-10-20
  • 405| 711| 200| 978| 676| 810| 975| 327| 502| 664|